特許

J-GLOBAL ID：200903000257140860

X線発生装置

発明者： 神高 典明 ,  近藤 洋行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-307719
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148092
出願日： 1995年11月27日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 飛散粒子制御部材の効果を減ずることなく、充填した飛散粒子阻止用のガスや飛散粒子阻止部材を効果的に利用できるようにして、長時間安定して使用できるX線発生装置を提供する。【解決手段】 プラズマ411から飛散粒子阻止部材412の直前までの第1領域における圧力を相対的に小さくし、飛散粒子阻止部材412から光学素子410までの第2領域における圧力を相対的に高くする圧力分離機構を設け、かつ、第2領域に飛散粒子阻止用のガスを導入するためのガス導入口413を設けた。

請求項（抜粋）：

減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置であり、前記標的部材及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子の放出量の方向分布を制御して、前記X線を取り出す方向への飛散粒子放出量を低減させる飛散粒子制御部材を前記標的部材に隣接または近接させて設け、かつ、前記真空容器内に設置された光学素子に前記飛散粒子が衝突、付着または堆積するのを防止するための部材であり開口を有する飛散粒子阻止部材を前記エネルギービームまたは前記X線が該開口を通過するように、前記プラズマと前記光学素子との間に設けたX線発生装置において、前記プラズマから前記飛散粒子阻止部材の直前までの第1領域における圧力を相対的に小さくし、前記飛散粒子阻止部材から前記清浄光学面までの第2領域における圧力を相対的に高くする圧力分離機構を設け、かつ、前記第2領域に飛散粒子阻止用のガスを導入するためのガス導入口を設けたことを特徴とするX線発生装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  H05G 1/00

FI (2件)：

H05G 1/00 K ,  H05G 1/00 G

引用特許：

審査官引用 (3件)

• X線装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-046288   出願人：株式会社ニコン
• レーザプラズマX線源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-092829   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭63-292553