特許
J-GLOBAL ID:200903018234886411
クーラント浄化装置、電解インプロセスドレッシング装置および研削装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐野 章吾 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-194728
公開番号(公開出願番号):特開2002-011661
出願日: 2000年06月28日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【課題】 電気化学的作用により、工作機械の加工部に供給されるクーラント中の金属イオンを回収除去することができる構造を備えたクーラント浄化技術を提供する。【解決手段】 クーラント供給回路22の油タンク21内に、直流電源33に電気的に接続された陰極板31と陽極板32が配置されて、電気化学的作用により、陰極板31の表面に金属イオンが析出回収するように構成されている。これにより、このような構成を備えたELID方式の研削装置において、循環供給されるクーラント中に、砥石車1や金属ワークWの金属成分がイオン化して溶出しても、この金属イオンは、陰極板31の表面に析出回収されて、ドレッシング電極15に金属皮膜を形成することはなく、電解能力の低下が有効に防止される。
請求項(抜粋):
工作機械の加工部に供給されるクーラント中の金属イオンを回収除去してクーラントを浄化する装置であって、クーラントの循環経路に設けられた貯留タンク内に、直流電源に電気的に接続された少なくとも一対の陰極と陽極が配置されてなり、電気化学的作用により、前記陰極表面に前記金属イオンが析出回収するように構成されていることを特徴とするクーラント浄化装置。
IPC (3件):
B24B 55/03
, B23H 5/00
, B24B 53/00
FI (3件):
B24B 55/03
, B23H 5/00 J
, B24B 53/00 D
Fターム (10件):
3C047AA13
, 3C047AA16
, 3C047AA25
, 3C047AA27
, 3C047GG13
, 3C047GG17
, 3C059AA02
, 3C059AB01
, 3C059GC01
, 3C059HA08
引用特許: