特許
J-GLOBAL ID:200903018270476343
シリカゲル複合膜
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小谷 悦司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-154975
公開番号(公開出願番号):特開2001-329105
出願日: 2000年05月25日
公開日(公表日): 2001年11月27日
要約:
【要約】【課題】 シリカゲルが本来有する化学的安定性、電気的性質を有し、しかもハンドリングしやすいシリカゲル膜を提供する。【解決手段】 外部に連通する空孔を有する多孔質高分子膜、及び該空孔に充填されたシリカゲルを含む。前記シリカゲル複合膜の表面に、さらにシリカゲル層が積層されていてもよい。本発明のシリカゲル複合膜は、550nmの光線透過率が60%以上であることが好ましい。
請求項(抜粋):
外部に連通する空孔を有する多孔質高分子膜、及び該空孔に充填されたシリカゲルを含むことを特徴とするシリカゲル複合膜。
IPC (4件):
C08J 9/40 CEW
, B01J 20/10
, B01J 21/08
, C08L 27:18
FI (4件):
C08J 9/40 CEW
, B01J 20/10 D
, B01J 21/08 M
, C08L 27:18
Fターム (43件):
4F074AA39
, 4F074AC32
, 4F074CA02
, 4F074CA03
, 4F074CE15
, 4F074CE37
, 4F074CE74
, 4F074CE75
, 4F074CE94
, 4F074CE98
, 4F074DA23
, 4F074DA32
, 4F074DA59
, 4G066AA22B
, 4G066AB18A
, 4G066AC15C
, 4G066BA03
, 4G066BA05
, 4G066BA20
, 4G066BA38
, 4G066CA02
, 4G066CA43
, 4G066DA03
, 4G066FA09
, 4G066FA12
, 4G066FA21
, 4G069AA01
, 4G069AA03
, 4G069BA03A
, 4G069BA03B
, 4G069BA04A
, 4G069BA22A
, 4G069BA22B
, 4G069BA38
, 4G069BA48A
, 4G069BB02A
, 4G069BB04A
, 4G069BC22A
, 4G069BC67A
, 4G069BC68A
, 4G069BE34A
, 4G069BE34B
, 4G069EA08
引用特許: