特許
J-GLOBAL ID：200903018284127481
ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロツクコポリマーの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-297821
公開番号（公開出願番号）：特開平9-124795
出願日： 1996年10月21日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：
【要約】【課題】 より良い離型特性及び流動、より低い温度に転置されるゴム/ガラス転移及び改善されたESC挙動を有するポリジオルガノシロキサン/ポリカーボネートブロックコポリマーを提供する。【解決手段】 特定のエステル交換触媒を使用して、溶融液中で、ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーを製造する方法。
請求項（抜粋）：
触媒の存在下で80°C〜320°Cの温度及び1000mbar〜0.01mbarの圧力で、芳香族のSiを含まないジフェノール、炭酸ジアリールエステル及びポリジオルガノシロキサンから、18000〜60000の平均分子量Mw(重量平均、ゲルクロマトグラフィーによって測定して)を有する熱可塑性ポリ(ジオルガノシロキサン)/ポリカーボネートブロックコポリマーを製造する方法であって、使用する触媒が、1モルのSiを含まないジフェノールに対して10-1〜10-8モルの量の、式(I)及び/又は(II)【化1】[式中、R1-4は、同一の又は異なるC1〜C30-アルキル、C6〜C10-アリール又はC5〜C6-シクロアルキルであり、ここでR1-4の少なくとも一つの残基は、C8〜C30-アルキルであり、そしてX-は、その中で対応する酸/塩基の対H++X-⇔HXが1〜11のpKBを有するアニオンである]の第四級アンモニウム化合物及び/又は第四級ホスホニウム化合物であり、そして使用するポリジオルガノシロキサン成分が、Siを含まないジフェノール及びポリジオルガノシロキサンの総重量に対して30重量%〜0.5重量%の、好ましくは7重量%〜1重量%の重量のα,ω-ビスヒドロキシアリール-、α,ω-ビスヒドロキシアルキル-、α,ω-ビスアシル-、又はα,ω-ビスヒドロキシアシル-ポリジオルガノシロキサンを含んで成ることを特徴とする方法。
IPC (3件)：
C08G 77/448 NUK
, C08J 5/00 CFH
, C08L 83:10
C08G 77/448 NUK
, C08J 5/00 CFH
