特許
J-GLOBAL ID：200903018297488564
成膜装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-049049
公開番号（公開出願番号）：特開2000-239834
出願日： 1999年02月25日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：
【要約】【課題】 蒸発に際して溶融する蒸着材料を連続的に補給すること。【解決手段】 プラズマガン13の陰極14と真空容器11内のハース31との間で放電が生じ、これによりプラズマビームPBが生成される。このプラズマビームPBは、ステアリングコイル24と補助陽極32内の永久磁石35により決定される磁界に案内されてハース31に到達する。ハース本体33に収納された蒸発物質は、プラズマビームにより加熱されて蒸発する。この蒸発粒子は、プラズマビームによりイオン化され、負電圧が印加された基板Wの表面に付着し被膜が形成される。この際、ガイドパイプ60を介してフィードボックス70が蒸発物質をワイヤ状態で供給するので、真空容器11を開放することなく、安定した条件のもとで成膜装置を長期間連続動作させることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマビームを成膜室中に供給するプラズマ源と、前記成膜室中に配置されて膜材料を収容可能な材料収容部を備えるとともに、当該材料収容部に前記プラズマビームを導くハースと、前記材料収容部の上方の近接した領域の磁界を制御する磁場制御部材と、前記膜材料を可撓性を有する線状の固体材料として前記成膜室の外部から前記材料収容部に供給する材料供給手段とを備える成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
4K029DB09
, 4K029DB15
, 4K029DD05
