特許

J-GLOBAL ID：200903018336900605

ポジ型レジスト組成物

発明者： 河田 正司 ,  楠 哲了 ,  柏木 幹文 ,  藤井 利明
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-235353
公開番号（公開出願番号）：特開平6-059446
出願日： 1992年08月11日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【目的】 感度、残膜率、解像度などの諸特性のバランスに優れ、特に1μm以下の微細加工において露光量に対する寸法変化が小さく、かつパターン形状の優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂、キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤、及び下記一般式〔I〕で示されるヒドロキシ化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R4:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、またはフェニル置換アルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい)

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)、キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤(b)、及び下記一般式〔I〕で示されるヒドロキシ化合物(c)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R4:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、またはフェニル置換アルコキシ基であって、それぞれ同一または異なっていてもよい)

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭57-111529
  
• 特開平3-279958
  
• 特開平4-086665
  
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-037750   出願人：住友化学工業株式会社