特許

J-GLOBAL ID：200903018962198408

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  森馬 洋
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-037750
公開番号（公開出願番号）：特開平5-232697
出願日： 1992年02月25日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐熱性及び密着性等の諸性能のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド化合物及び一般式(I)【化1】〔式中、Y1 〜Y10はこれらの中、少なくとも1つは水酸基を表わすという条件付きで、各々水素原子、水酸基又はアルキル基を表わし、Xは【化2】(R1 〜R3 は各々独立して水素原子又はアルキル基を表わす)を表わす。〕で示される化合物を含むこと、並びに、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂中のポリスチレン換算分子量1000以下の成分のGPCにより測定したパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して30%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド化合物及び一般式(I)【化1】〔式中、Y1 〜Y10はこれらの中、少なくとも1つは水酸基を表わすという条件付きで、各々水素原子、水酸基又はアルキル基を表わし、Xは【化2】(R1 〜R3 は各々独立して水素原子又はアルキル基を表わす)を表わす。〕で示される化合物を含むこと、並びに、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂中のポリスチレン換算分子量1000以下の成分のGPCにより測定したパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して25%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平3-228059
  
• 特開平3-142468
  
• 特開昭63-313150
  
• 特開平4-086665
  
• 特開平4-299348
  
• ポジ型フオトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-023967   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-217188   出願人：住友化学工業株式会社