特許
J-GLOBAL ID:200903018355660003
半導電性ゴム原料組成物、半導電性ゴム原料組成物の製造方法及び半導電性シームレスベルト
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 崇生 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-161474
公開番号(公開出願番号):特開2001-343839
出願日: 2000年05月31日
公開日(公表日): 2001年12月14日
要約:
【要約】【課題】半導電性ゴム部材の混練ロットの変動に基づく体積固有抵抗の変動を1桁以内に調整可能な電子写真装置ゴム部材用の半導電性ゴム原料組成物、その製造方法、及び半導電性シームレスベルトを提供する。【解決手段】1次凝集体の平均粒子径が30μm以下の粒子から構成されたシリカ粉末がゴム材料100重量部に対して1〜30重量部添加されており、加硫後のゴムの体積固有抵抗R(Ω・cm)が10<SP>7</SP> 〜10<SP>12</SP>Ω・cmの半導電性である半導電性ゴム原料組成物とする。加硫後の体積固有抵抗R<SB>0</SB> が、logR<SB>0</SB> <0.5(logR<SB>max</SB> +logR<SB>min</SB> )を充たす基礎原料ゴム組成物を使用し、予め求めた添加量に基づく体積固有抵抗の変化率に基づきlogR=0.5(logR<SB>max</SB> +logR<SB>min</SB> )となる量のシリカ粉末を、基礎原料ゴム組成物に添加して混練することにより、目的とする半導電性ゴム原料組成物が得られる。
請求項(抜粋):
1次凝集体の平均粒子径が30μm以下の粒子から構成されたシリカ粉末が、ゴム材料100重量部に対して1〜30重量部添加されており、加硫後のゴムの体積固有抵抗R(Ω・cm)が107 〜1012Ω・cmの半導電性の範囲内である電子写真装置ゴム部材用の半導電性ゴム原料組成物。
IPC (8件):
G03G 15/16
, G03G 15/16 103
, C08J 5/00 CEQ
, C08K 7/18
, C08L 21/00
, F16C 13/00
, G03G 15/02 101
, H01B 1/24
FI (9件):
G03G 15/16
, G03G 15/16 103
, C08J 5/00 CEQ
, C08K 7/18
, C08L 21/00
, F16C 13/00 E
, F16C 13/00 A
, G03G 15/02 101
, H01B 1/24 B
Fターム (42件):
2H003BB11
, 2H003CC05
, 2H032AA05
, 2H032BA09
, 2H032BA18
, 3J103AA02
, 3J103FA30
, 3J103GA02
, 3J103GA57
, 3J103HA03
, 3J103HA11
, 3J103HA51
, 3J103HA53
, 4F071AA10
, 4F071AA12X
, 4F071AA13
, 4F071AA34X
, 4F071AA51
, 4F071AA53
, 4F071AB26
, 4F071AD06
, 4F071AF37Y
, 4F071AG05
, 4F071AH16
, 4F071BB05
, 4F071BC01
, 4F071BC05
, 4J002AC001
, 4J002AC071
, 4J002AC091
, 4J002CH041
, 4J002CK021
, 4J002DJ016
, 4J002FA086
, 4J002FD010
, 4J002FD140
, 4J002GM01
, 4J002GQ02
, 5G301DA18
, 5G301DA36
, 5G301DA42
, 5G301DD02
引用特許:
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