特許

J-GLOBAL ID：200903018445172024

基板処理装置の基板保持具

発明者： 藤川 和憲 ,  安井 研二 ,  西澤 久雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 北谷 寿一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-131739
公開番号（公開出願番号）：特開平8-049073
出願日： 1995年05月30日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】 基板保持溝内に処理液が残留する不都合を改善して、基板の浸漬処理工程におけるクロスコンタミネーションの問題を解消する。【構成】 本基板保持具20は、複数の基板Wを起立姿勢で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠21A〜21Bを有し、起立姿勢で保持した複数の基板Wを処理液中から相対的に引き上げる基板処理装置において用いられる。上記基板保持枠21A〜21Bの各基板保持溝22の底部に基板Wの厚さより大きな直径を有する液抜き孔23a・23bを貫通形成する。

請求項（抜粋）：

複数の基板を起立姿勢で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠を有し、起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中から相対的に引き上げる基板処理装置の基板保持具において、上記基板保持枠の各基板保持溝の底部に基板の厚さより大きな直径を有する液抜き孔を貫通形成したことを特徴とする基板処理装置の基板保持具。

IPC (5件)：

C23C 14/50 ,  B08B 11/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68 ,  B65D 85/86

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-161724
  
• 特開平3-022547
  
• キャリアカセット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-163035   出願人：株式会社日立製作所