有機EL素子の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島一公
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-286370
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142168
出願日： 1993年11月16日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】未発光部分の少ない有機EL素子を製造する。【構成】陽極2のプラズマ表面処理を行った後、素子を大気中にさらすことなく、前記陽極2上に有機物層3,4、陰極5、封止膜6を順次形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に、陽極、有機物層、陰極を順次積層してなる有機EL素子の製造方法において、陽極のプラズマ表面処理を行った後、前記陽極を大気中にさらすことなく、次いで前記陽極上に有機物層を形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。

IPC (3件)：

H05B 33/10 , H05B 33/04 , H05B 33/14

引用特許：

審査官引用 (3件)

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