特許
J-GLOBAL ID:200903018474900020

実時間表面モニター装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-223614
公開番号(公開出願番号):特開平5-128991
出願日: 1991年08月09日
公開日(公表日): 1993年05月25日
要約:
【要約】【目的】 フォトマルチプライヤとカメラとの切り替えを必要としない、SREM像とRHEEDパターンとを同時に観測することができる実時間モニター装置を提供する。【構成】 半導体製造装置のチャンバー31内に保持された半導体基板に粒子線を照射する電子銃34と、反射像を写し出す蛍光スクリーン36とを用いる実時間表面モニター装置において、チャンバー31と蛍光スクリーン36とを接続する検出用ポート11にカメラ用ポート12を設け、蛍光スクリーン36の外側にフォトマルチプライヤ39を、カメラ用ポート12の外側にカメラ13を設置して、フォトマルチプライヤ39によるSREM像と、カメラ13によるRHEEDパターンとの観察を同時に行うことができるようにした。
請求項(抜粋):
半導体製造装置のチャンバー内に保持された半導体基板に電子線を照射し、その反射像を前記チャンバーの検出用ポートに設置された蛍光スクリーンに写し出して回折パターンを観察する実時間表面モニター装置において、前記蛍光スクリーンが見込める互いに異なる位置に第1及び第2の検出手段を設け、第1及び第2の検出手段による検出を同時に行うことができるようにしたことを特徴とする実時間表面モニター装置。
IPC (2件):
H01J 37/295 ,  H01L 21/66
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭62-223961
  • 特開昭49-107170
  • 特開昭61-019045

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