特許
J-GLOBAL ID:200903018509786110
メタルマスク
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-349493
公開番号(公開出願番号):特開2004-183023
出願日: 2002年12月02日
公開日(公表日): 2004年07月02日
要約:
【課題】有機ELディスプレイ等の蒸着用メタルマスクとして高精度なパターン成膜が可能なメタルマスクを提供する。【解決手段】開孔寸法を定める開孔形成層と、支持層と、前記開孔形成層と支持層とに挟み込まれ、前記開孔形成層及び支持層とはエッチング特性の異なる接合層とを具備するメタルマスクであって、前記開孔形成層及び支持層は質量%でNi+Co:30〜55%、C:0.01%以下を含み、残部実質的にFeでなるFe-Ni系合金であるメタルマスクであり、好ましくは、開孔形成層及び支持層に用いるFe-Ni系合金は(111)、(200)、(311)、(220)の主方位のうち(200)が60〜99%であるメタルマスクである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
開孔寸法を定める開孔形成層と、支持層と、前記開孔形成層と支持層とに挟み込まれ、前記開孔形成層及び支持層とはエッチング特性の異なる接合層とを具備するメタルマスクであって、前記開孔形成層及び支持層は質量%でNi+Co:30〜55%、C:0.01%以下を含み、残部実質的にFeでなるFe-Ni系合金であることを特徴とするメタルマスク。
IPC (7件):
C22C38/00
, C22C19/03
, C22C38/10
, C23C14/04
, C23C14/24
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (7件):
C22C38/00 302R
, C22C19/03 M
, C22C38/10
, C23C14/04 A
, C23C14/24 G
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (7件):
3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029CA01
, 4K029HA02
, 4K029HA03
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭57-026163
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特開昭58-073767
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蒸着用治具及び蒸着方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-304490
出願人:ソニー株式会社
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