特許
J-GLOBAL ID：200903018574499528

光情報媒体用フォトレジスト原盤の製造方法および光情報媒体用スタンパの製造方法

発明者：
小宅 久司

小宅 久司 について

, 
高畑 広彰

高畑 広彰 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-568371
公開番号（公開出願番号）：特表2004-519803
出願日： 2002年02月26日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
光情報媒体の製造に用いるフォトレジスト原盤において、露光波長の半分程度の最小幅をもつ微細なパターンを形成するに際し、パターン高さの減少を抑え、また、パターン断面プロファイルの鈍りを改善する。基板上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層上からレーザビームを照射してフォトレジスト層に潜像を形成し、この潜像を現像して凹凸パターンを形成することによりフォトレジスト原盤を製造するに際し、基板とフォトレジスト層との間に、フォトレジスト層に接して、前記レーザビームの波長において光吸収性を示す光吸収層を設ける光情報媒体用フォトレジスト原盤の製造方法。
請求項（抜粋）：
基板上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層上からレーザビームを照射してフォトレジスト層に潜像を形成し、この潜像を現像して凹凸パターンを形成することによりフォトレジスト原盤を製造するに際し、 基板とフォトレジスト層との間に、フォトレジスト層に接して、前記レーザビームの波長において光吸収性を示す光吸収層を設ける光情報媒体用フォトレジスト原盤の製造方法。
IPC (1件)：
G11B7/26
FI (2件)：
G11B7/26 501 ,  G11B7/26 511
Fターム (4件)：
5D121BB04 ,  5D121BB21 ,  5D121CB06 ,  5D121CB07
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-263140
  • 特開昭62-262244
  • 記録媒体及びその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-240604   出願人：株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM