特許
J-GLOBAL ID:200903018584445302
大口径ウェーハの評価方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
安倍 逸郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-140208
公開番号(公開出願番号):特開2000-332078
出願日: 1999年05月20日
公開日(公表日): 2000年11月30日
要約:
【要約】【課題】 小口径ウェーハ用の評価ラインを大口径ウェーハの評価に利用する大口径ウェーハの評価方法を提供する。【解決手段】 直径300mmの大口径ウェーハW1をカッティングして、直径200mmの小口径ウェーハW2を作製する。その後、得られた小口径ウェーハW2を200mmウェーハ用評価ラインLのラインコンベア11上に移載して、このラインL上に順次配備された各種のウェーハ評価装置12により、必要なウェーハ評価試験を行う。このように、工場などに配備された既存の200mmウェーハ評価ラインLで、大口径ウェーハW1の評価を行うことができる。なおカッティング時には、大口径ウェーハW2をレーザ光線によりカットするようにしたので、カッティングの作業性を高めることができる。
請求項(抜粋):
大口径ウェーハを作製する工程と、作製された大口径ウェーハから小口径ウェーハをカッティングする工程と、カッティングで得られた小口径ウェーハについて評価試験を行う工程とを備えた大口径ウェーハの評価方法。
IPC (3件):
H01L 21/66
, B23K 26/00
, H01L 21/301
FI (3件):
H01L 21/66 Z
, B23K 26/00 D
, H01L 21/78 B
Fターム (14件):
4E068AE00
, 4E068DA10
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA10
, 4M106CA14
, 4M106CA24
, 4M106CA48
, 4M106CA70
, 4M106CB11
, 4M106CB19
, 4M106DH32
, 4M106DH60
, 4M106DJ40
引用特許:
審査官引用 (3件)
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半導体レーザ装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-158875
出願人:古河電気工業株式会社
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特開昭56-049539
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特開昭56-049539
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