特許
J-GLOBAL ID：200903018597602750
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-176038
公開番号（公開出願番号）：特開2007-013151
出願日： 2006年06月27日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】表面から浸漬液を除去する効果的手段を有する浸漬装置を提供すること。【解決手段】浸漬式リソグラフィ装置において表面を乾燥するように構成されたガス・ナイフは、乾燥されている表面の上の液体膜内に圧力勾配が確立されるようにすることによって液体を除去するよう最適化される。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
パターン形成装置から液体を介して基板上にパターンを投影するように構成されるリソグラフィ投影装置であって、該リソグラフィ投影装置が、乾燥されるべき表面に、該表面に対し70°〜85°の角度でガスを供給するように構成されたガス・ナイフを含む、リソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046CB01
, 5F046CB12
, 5F046CC01
