特許

J-GLOBAL ID：200903097920501973

リソグラフィ機器及びデバイスの製造方法

発明者： ヘンリクス ヘルマン マリー コックス ,  スヨエルト ニコラース ラムベルテュス ドンデルス ,  クリスティアーン アレクサンダー ホーゲンダム ,  アレクセイ ユリーヴィチ コレスニーチェンコ ,  エリック ロエロフ ロープシュトラ ,  ヘルマー ファン サンテン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-187276
公開番号（公開出願番号）：特開2005-045223
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】リソグラフィ投影機器内で、水などの比較的屈折率が大きい液体中に基板を浸して、投影システムの最終要素と基板表面の間のスペースに液体を閉じ込めるための効果的なシールを提供する。【解決手段】シール部材4は、投影システムPLの最終要素と基板Wの表面の間に配置され、それによってスペース2が画定される。シール部材4と基板Wの表面の間に液体シールが形成され、それによって、スペース2からの液体の漏れが妨げられる。シール部材4は、基板に面するその表面に、液体注入口6及び液体排出口8を有する。排出口8は、投影システムの光軸に関して注入口6の半径方向内側に配置される。その注入口から排出口に至る液体の流れによって、液体シールが形成される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

放射投影ビームを提供する放射システムと、 所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する支持構造と、 基板を保持する基板テーブルと、 前記基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影する投影システムと、 前記投影システムの最終要素と前記基板の間のスペースに液体を提供する液体供給システムとを備えるリソグラフィ投影機器であって、 前記液体供給システムが、 前記投影システムの前記最終要素と前記基板の間の前記スペースの境界の少なくとも一部に沿って延びるシール部材と、 液体の流れによって前記シール部材と前記基板の表面の間にシールを形成する液体シール手段とを備えることを特徴とする、機器。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 501

Fターム (6件)：

2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB27 ,  5F046CC20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 液浸リソグラフィシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-113925   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-051576   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (2件)

• 液浸リソグラフィシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-113925   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-051576   出願人：株式会社ニコン