半導体ウェーハの洗浄装置及び洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-136796
公開番号（公開出願番号）：特開平11-330028
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】界面活性剤や多種の薬液を使用せず、簡単な工程で従来の洗浄方法と同等以上の洗浄効果を達成できる半導体ウェーハの洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】光を透過する材料によって形成された容器と、該容器に光を照射することのできる光照射装置とからなり、該容器内の液中に半導体ウェーハを浸漬し、該半導体ウェーハに該光照射装置から光を照射し、該半導体ウェーハの表面を洗浄するようにした。

請求項（抜粋）：

光を透過する材料によって形成された容器と、該容器に光を照射することのできる光照射装置とからなり、該容器内の液中に半導体ウェーハを浸漬し、該半導体ウェーハに該光照射装置から光を照射し、該半導体ウェーハの表面を洗浄することを特徴とする半導体ウェーハの洗浄装置。

引用特許：

審査官引用 (1件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-285738 出願人：ソニー株式会社

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