半導体プロセス用排ガス処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江孝一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-011400
公開番号（公開出願番号）：特開2002-210330
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年07月30日
要約：

【要約】【課題】全体をコンパクトかつ低コストに構成しながらも、プラズマ着火電力の低下及び耐久性向上を図り得るとともに、プロセス用排ガスを効率よく分解し無害化処理できるようにする。【解決手段】半導体プロセスチャンバー1から排出される排ガス処理用プラズマを発生するための高周波放電管4を、排ガス導入口5a及び導出口5bを有する絶縁性管状容器5とその外周に螺旋コイル状に巻回させた誘導結合方式の高周波放電用電極9とから構成し、この高周波放電用電極9を、内部に冷却水を流通可能な状態でコイル状に巻回された大径導電性金属管10と、この大径導電性金属管10の螺旋ピッチ間に配置され、かつ、大径導電性金属管10に電気的に接続させてコイル状に巻回された小径の高周波電力線11とから構成している。

請求項（抜粋）：

半導体プロセスチャンバーから排出される排ガスの導入口及び導出口を有する絶縁性管状容器の外周に誘導結合方式の高周波放電用電極を螺旋コイル状に巻回させて高周波放電管を構成し、この高周波放電管のコイル状高周波放電用電極に高周波電力を印加することにより上記容器内にプラズマを発生させて半導体プロセス用排ガスを分解処理するように構成されている半導体プロセス用排ガス処理装置であって、上記高周波放電用電極が、内部に冷却水を流通可能な状態で絶縁性管状容器の外周に螺旋コイル状に巻回された大径の導電性金属管と、この大径導電性金属管の螺旋ピッチ間に配置されて上記絶縁性管状容器の外周に螺旋コイル状に巻回された小径の高周波電力線とから構成され、上記大径導電性金属管の排ガス導出口側の端部と小径高周波電力線の排ガス導入口側の端部とは電気的に接続されていることを特徴とする半導体プロセス用排ガス処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/68 , B01J 19/08 ZAB , C23C 16/44 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H05H 1/28 , H05H 1/30

FI (7件)：

B01J 19/08 ZAB E , C23C 16/44 E , H01L 21/31 C , H05H 1/28 , H05H 1/30 , B01D 53/34 134 C , H01L 21/302 B

Fターム (46件)：

4D002AA22 , 4D002AC10 , 4D002BA12 , 4D002CA20 , 4D002DA35 , 4D002EA11 , 4G075AA03 , 4G075BA01 , 4G075BA05 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075BD01 , 4G075BD12 , 4G075CA03 , 4G075CA25 , 4G075CA47 , 4G075CA62 , 4G075DA02 , 4G075DA03 , 4G075EA06 , 4G075EB21 , 4G075EB41 , 4G075EC06 , 4G075EE02 , 4G075EE23 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G075FC11 , 4G075FC15 , 4K030EA12 , 5F004AA16 , 5F004BA00 , 5F004BC08 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA03 , 5F004DA15 , 5F004DA16 , 5F004DA17 , 5F004DA18 , 5F004DA20 , 5F004DA26 , 5F045AA08 , 5F045BB20 , 5F045EG07

引用特許：

審査官引用 (2件)

有機フッ素系排ガスの分解処理方法及び分解処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-241090 出願人：三井化学株式会社
特開昭63-184233

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