特許

J-GLOBAL ID：200903018647228366

気相合成ダイヤモンド膜およびこの気相合成ダイヤモンド膜からなるX線露光用マスク

発明者： 吉川 博道 ,  菊池 則文 ,  山下 博明 ,  松井 安次
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095643
公開番号（公開出願番号）：特開平6-316492
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】 透光性に優れた気相合成ダイヤモンド膜およびこの気相合成ダイヤモンド膜で構成されたX線露光用マスクを提供する。【構成】 下記の構成を有する透光性に優れた気相合成ダイヤモンド膜およびこの気相合成ダイヤモンド膜からなるX線露光用マスク。気相合成ダイヤモンド膜の構成、(1) 結晶粒径:30〜100nm、(2) 表面粗さ:80nm以下、(3) (非ダイヤモンド成分のラマン強度)/(ダイヤモンドのラマン強度):10%以下、(4) ダイヤモンドのラマンピーク半値幅:4〜10cm-1。

請求項（抜粋）：

下記の構成を有する透光性に優れた気相合成ダイヤモンド膜。(1) 結晶粒径:30〜100nm、(2) 表面粗さ(ダイヤモンド膜の断面を観察した時の膜表面の凹凸の最も高い所と低い所の差):80nm以下、(3) 非ダイヤモンド成分のラマン強度がダイヤモンドのラマン強度の10%以下、(4) ダイヤモンドのラマンピークの半値幅が4〜10cm-1。

IPC (2件)：

C30B 29/04 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ダイヤモンド薄膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-337866   出願人：日本電気株式会社