特許

J-GLOBAL ID：200903018704927896

膜形成用プラズマ装置

発明者： 小野 俊郎 ,  渡辺 巌 ,  嶋田 勝 ,  松尾 誠太郎
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-213571
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078333
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ中のイオンを用いてスパッタリングする際に高効率に大面積の領域に高均一に成膜する。【構成】 プラズマ室1,成膜室2を排気系12によって高真空に排気し、ガス導入系10によりArガスを導入し、マイクロ波電源15より矩形導波管4 ,マイクロ波導入窓3を介して導入されるマイクロ波と、コイル電源14により磁気コイル9に供給された電力により形成される磁界とにより、プラズマ室1 にECRプラズマを生成する。試料台7はターゲット11の回転対称軸上に配置され、試料台7の回転中心軸がターゲット11の回転対称軸に対して傾斜するとともにターゲット11の回転対称軸と試料台7の回転中心軸との交点が試料基板8に対してターゲット11の反対方向に位置するように傾斜して回転させる回転装置16を設けた。

請求項（抜粋）：

プラズマ生成用ガスを導入してプラズマによるプラズマ流を発生させるプラズマ発生手段と、前記プラズマ流と接触するように前記プラズマ流と同心的に配置された膜形成用材料からなるターゲットと、前記プラズマ流のイオンを用いて前記ターゲットから膜形成用材料の粒子を前記プラズマ流内に飛散させる手段と、前記膜形成用材料の粒子を飛散させているプラズマ流によって照射される膜形成用試料基板を載置固定する基板載置台と、を有する膜形成用プラズマ装置において、前記基板載置台が前記ターゲットの回転対称軸上に配置され、前記基板載置台の回転中心軸が前記ターゲットの回転対称軸に対して傾斜するとともに前記ターゲットの回転対称軸と前記基板載置台の回転中心軸との交点が前記試料形成用基板に対して前記ターゲットの反対方向に位置するように傾斜して回転させる回転手段を設けたことを特徴とする膜形成用プラズマ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-229863
  
• 特開平1-270321
  
• 特開昭63-162862