特許
J-GLOBAL ID：200903018715046816
3次元形状計測システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小谷 悦司
, 伊藤 孝夫
, 樋口 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-181563
公開番号（公開出願番号）：特開2006-003276
出願日： 2004年06月18日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：
【課題】 パターン光を投影した試料の画像に、フーリエ変換を施し位相を求め、それをもとに試料の3次元形状を計測する装置において、入力する画像の枚数を削減し、計測時間の短縮を図る。【解決手段】 基準平板1に表示された基準パターンがカメラ5で撮像される。そして、得られた表示画像に対して、フーリエ変換位相シフト法を用いることで表示位相画像が求められる。同様に、基準平板1及び試料にプロジェクタ6から投影された投影パターンが撮像された画像をもとに、それぞれ投影位相画像及び試料位相画像が求められる。このとき、試料画像を撮像する際の位相シフトを、X方向のみに限定する。そして、得られたX方向のみの試料位相画像をもとに、試料の3次元形状が求められる。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
基準平板に周期的な基準パターンを表示する基準パターン表示手段と、
周期的なパターン光を前記基準平板又は試料に投影するパターン光投影手段と、
前記基準パターン表示手段により表示された前記基準平板上の前記基準パターンと、前記パターン光投影手段により投影された前記基準平板上の前記パターン光と、前記パターン光投影手段により投影された前記試料上の前記パターン光とを撮像し、それぞれ表示画像、投影画像及び試料画像とを取得する撮像手段と、
前記表示画像に基づいて、各画素に対応する視線位置の情報を算出し、画素の位置に対応させて記憶する視線情報記憶手段と、
前記表示画像及び前記投影画像に基づいて、前記パターン光の位置情報と識別情報とを、画素の位置に対応させて記憶するパターン光情報記憶手段と、
前記試料画像上の画素に写されている一の方向の前記パターン光の情報に対応する情報を前記パターン光情報記憶手段から抽出し、前記一の方向の前記パターン光のサブセットを特定するサブセット特定手段と、
前記視線情報記憶手段及び前記サブセット特定手段からの情報に基づいて、前記試料画像上の画素に写されている試料上の点の3次元座標を算出する第1の3次元座標算出手段とを備えることを特徴とする3次元形状計測システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B11/24 E
, G01B11/00 H
2F065AA04
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065DD06
, 2F065FF01
, 2F065FF07
, 2F065HH07
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065QQ03
, 2F065QQ16
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065RR07
, 2F065SS13
, 2F065UU01
