表面平坦性絶縁膜形成用塗布溶液、表面平坦性絶縁膜被覆基材、及び表面平坦性絶縁膜被覆基材の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-099624
公開番号（公開出願番号）：特開2008-255242
出願日： 2007年04月05日
公開日（公表日）： 2008年10月23日
要約：

【課題】ポリ(ジオルガノ)シロキサンと金属アルコキシドから形成される有機修飾シリケートの1μm以上の厚膜で、相分離による凹凸が生じず、低いヤング率で基板の変形にも追従できる柔軟性を有し、電子デバイス等の微細部品を実装できる膜表面の平坦性の高い有機修飾シリケート絶縁膜を形成できる表面平坦性絶縁膜形成用塗布溶液を提供。【解決手段】質量平均分子量が900以上10000以下であるポリ(ジオルガノ)シロキサンAと金属アルコキシドBを有機溶媒Cに溶解し、さらに水を添加してなる塗布溶液であって、金属アルコキシドB1モルに対するポリ(ジオルガノ)シロキサンAのモル比A/Bが0.05以上1.5以下であり、前記有機溶媒Cが水酸基を有し、有機溶媒C100gに対する水の溶解度が3〜20gで、ポリ(ジオルガノ)シロキサンA1モルに対する有機溶媒Cのモル比C/Aが0.05〜100である表面平坦性絶縁膜形成用塗布溶液。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

質量平均分子量が900以上10000以下であるポリ(ジオルガノ)シロキサンAと金属アルコキシドBを有機溶媒Cに溶解し、さらに水を添加してなる塗布溶液であって、金属アルコキシドB1モルに対するポリ(ジオルガノ)シロキサンAのモル比A/Bが0.05以上1.5以下であり、前記有機溶媒Cが水酸基を有し、有機溶媒C100gに対する水の溶解度が3〜20gで、ポリ(ジオルガノ)シロキサンA1モルに対する有機溶媒Cのモル比C/Aが0.05〜100であることを特徴とする表面平坦性絶縁膜形成用塗布溶液。

IPC (4件)：

C09D 183/04 , H01B 3/46 , C09D 7/12 , C09D 5/25

FI (4件)：

C09D183/04 , H01B3/46 E , C09D7/12 , C09D5/25

Fターム (36件)：

4J038DL031 , 4J038JA23 , 4J038KA06 , 4J038MA14 , 4J038NA12 , 4J038NA21 , 4J038PA19 , 4J038PB09 , 5F058AB10 , 5F058AC03 , 5F058AC06 , 5F058AC10 , 5F058AD05 , 5F058AD07 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH10 , 5F058BA01 , 5F058BA20 , 5F058BC02 , 5F058BC03 , 5F058BC05 , 5F058BD04 , 5F058BD05 , 5F058BD07 , 5F058BD18 , 5F058BF46 , 5F058BH01 , 5F058BJ10 , 5G305AA07 , 5G305AA11 , 5G305AB21 , 5G305AB40 , 5G305BA04 , 5G305CA26 , 5G305CB27

引用特許：

出願人引用 (2件)

シリコーン樹脂組成物および耐熱性絶縁電線
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-045468 出願人：古河電気工業株式会社
シリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-309283 出願人：新日本製鐵株式会社

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