特許
J-GLOBAL ID：200903045006652084

シリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔及びその製造方法

発明者：
山田 紀子

山田 紀子 について

, 
濱田 健

濱田 健 について

, 
久保 祐治

久保 祐治 について


出願人/特許権者：
新日本製鐵株式会社

新日本製鐵株式会社 について


代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  亀松 宏 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-309283
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079405
出願日： 2003年09月01日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】 薄膜太陽電池の光路長を稼ぐための凹凸のある裏面反射層が作製可能な、表面凹凸構造を有するシリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス及びその製造方法を提供する。【解決手段】 シロキサン結合を主体とするシリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔であって、上記シリカ系無機ポリマー膜を構成するSiの少なくとも一部が、有機基又は水素の一方又は双方と化学結合しており、上記シリカ系無機ポリマー膜の表面に凹凸構造を有することを特徴とするシリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔及びその製造方法である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
シロキサン結合を主体とするシリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔であって、上記シリカ系無機ポリマー膜を構成するSiの少なくとも一部が、有機基又は水素の一方又は双方と化学結合しており、上記シリカ系無機ポリマー膜の表面に凹凸構造を有することを特徴とするシリカ系無機ポリマー膜で被覆されたステンレス箔。
IPC (2件)：
H01L31/04 ,  H01L21/314
FI (2件)：
H01L31/04 M ,  H01L21/314 A
Fターム (21件)：
5F051AA05 ,  5F051BA15 ,  5F051BA17 ,  5F051CA02 ,  5F051CA03 ,  5F051CA04 ,  5F051CB13 ,  5F051DA04 ,  5F051FA04 ,  5F051FA06 ,  5F051GA02 ,  5F051GA05 ,  5F051GA06 ,  5F051GA16 ,  5F058BA20 ,  5F058BC11 ,  5F058BC20 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BH20 ,  5F058BJ10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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