特許
J-GLOBAL ID:200903018726617882
クリーニングガス
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-384111
公開番号(公開出願番号):特開2002-184765
出願日: 2000年12月18日
公開日(公表日): 2002年06月28日
要約:
【要約】【課題】 薄膜形成装置等の内壁、該装置の冶具・部品、配管等に堆積した不要な堆積物を除去するためのクリーニングガスを提供する。【解決手段】 COF2に、CF2(OF)2、CF3OF、CF3OOCF3、またはF2を混合したガス。
請求項(抜粋):
薄膜形成装置等の内壁、該装置の冶具・部品、配管等に堆積した不要な堆積物を除去するためのクリーニングガスで、COF2に、CF2(OF)2、CF3OF、CF3OOCF3、またはF2を少なくとも1種以上混合したクリーニングガス。
IPC (5件):
H01L 21/3065
, C23C 14/00
, C23C 16/44
, C23F 4/00
, H01L 21/205
FI (5件):
C23C 14/00 B
, C23C 16/44 J
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H01L 21/302 F
Fターム (34件):
4K029DA01
, 4K029EA05
, 4K029FA09
, 4K030AA03
, 4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030BA40
, 4K030BB05
, 4K030DA06
, 4K030KA08
, 4K030KA30
, 4K057DA01
, 4K057DB01
, 4K057DB06
, 4K057DB08
, 4K057DD01
, 4K057DE06
, 4K057DG12
, 4K057DM02
, 4K057DN10
, 5F004AA15
, 5F004BA04
, 5F004DA00
, 5F004DA30
, 5F004DB01
, 5F004DB08
, 5F004DB10
, 5F004DB12
, 5F004DB13
, 5F045AA03
, 5F045AB04
, 5F045AC03
, 5F045AC12
, 5F045EB06
引用特許:
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