特許
J-GLOBAL ID:200903018726617882

クリーニングガス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-384111
公開番号(公開出願番号):特開2002-184765
出願日: 2000年12月18日
公開日(公表日): 2002年06月28日
要約:
【要約】【課題】 薄膜形成装置等の内壁、該装置の冶具・部品、配管等に堆積した不要な堆積物を除去するためのクリーニングガスを提供する。【解決手段】 COF2に、CF2(OF)2、CF3OF、CF3OOCF3、またはF2を混合したガス。
請求項(抜粋):
薄膜形成装置等の内壁、該装置の冶具・部品、配管等に堆積した不要な堆積物を除去するためのクリーニングガスで、COF2に、CF2(OF)2、CF3OF、CF3OOCF3、またはF2を少なくとも1種以上混合したクリーニングガス。
IPC (5件):
H01L 21/3065 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205
FI (5件):
C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 F
Fターム (34件):
4K029DA01 ,  4K029EA05 ,  4K029FA09 ,  4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA40 ,  4K030BB05 ,  4K030DA06 ,  4K030KA08 ,  4K030KA30 ,  4K057DA01 ,  4K057DB01 ,  4K057DB06 ,  4K057DB08 ,  4K057DD01 ,  4K057DE06 ,  4K057DG12 ,  4K057DM02 ,  4K057DN10 ,  5F004AA15 ,  5F004BA04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA30 ,  5F004DB01 ,  5F004DB08 ,  5F004DB10 ,  5F004DB12 ,  5F004DB13 ,  5F045AA03 ,  5F045AB04 ,  5F045AC03 ,  5F045AC12 ,  5F045EB06
引用特許:
審査官引用 (2件)

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