特許

J-GLOBAL ID：200903018783870942

スパッタリングターゲット用チタンの製造方法およびその製造に用いるチタンスラブ

発明者： 石井 満男 ,  藤井 秀樹 ,  河原 由尚 ,  千葉 正夫
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 田村 弘明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-077917
公開番号（公開出願番号）：特開平11-269640
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、高純度チタンターゲット材に用いる高純度チタン展伸材の製造工程の中で、原素材の製造工程、例えば、インゴットの鍛造・分塊圧延工程に着目して鍛造・分塊圧延工程における再結晶分率を全板厚に亘って制御した原素材と、これを用いて以降の熱延工程を経てチタンターゲット材素材として使用される厚板に至るまでに引き継いできたマクロ模様を均一化する方法を提供する。【解決手段】 板厚方向における再結晶組織分率が78%超であることを特徴とするスパッタリングターゲット材に使用する均一なマクロ模様を有する高純度厚板熱延用のスラブ、および該スラブを厚板熱延の総圧下比(圧延前厚さ/圧延後厚さ)2.7超で熱延し、焼鈍を行うことを特徴とするマクロ模様が均一な高純度チタン展伸材(熱延厚板)の製造方法。

請求項（抜粋）：

板厚方向における再結晶組織分率が78%超であることを特徴とするスパッタリングターゲット材に使用する均一なマクロ模様を有する高純度厚板熱延用のチタンスラブ。

IPC (10件)：

C23C 14/34 ,  B21B 1/02 ,  B21B 3/00 ,  B21J 1/02 ,  C22F 1/18 ,  C22F 1/00 601 ,  C22F 1/00 613 ,  C22F 1/00 683 ,  C22F 1/00 684 ,  C22F 1/00 694

FI (10件)：

C23C 14/34 A ,  B21B 1/02 D ,  B21B 3/00 K ,  B21J 1/02 Z ,  C22F 1/18 H ,  C22F 1/00 601 ,  C22F 1/00 613 ,  C22F 1/00 683 ,  C22F 1/00 684 Z ,  C22F 1/00 694 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 高純度チタン材の鍛造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-064680   出願人：住友シチックス株式会社