特許

J-GLOBAL ID：200903018785252790

露光方法及び露光装置

発明者： 杉田 充朗 ,  鈴木 章義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-304232
公開番号（公開出願番号）：特開平11-143085
出願日： 1997年11月06日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】 2光束干渉露光と通常露光の2つの露光法を用いて従来よりも複雑な形状のパタ-ンをウエハに形成すること。【解決手段】 感光基板に対して2光束干渉露光を行ない、前記感光基板に対して通常の露光を行なう時に、通常露光において前記感光基板に多値的な露光量分布を与える。ここで「多値的」とは、感光基板に与える露光量が2値(露光量ゼロの場合も含めて2種類)ではなく、与える露光量が3値以上(露光量ゼロの場合も含めて3種類以上)で、「通常の露光」とは2光束干渉露光より解像度が低いが2光束干渉露光とは異なる様々なパターンで露光が行なえる露光である。

請求項（抜粋）：

被露光基板に対して2光束干渉露光と通常の露光を行なう時に、前記二つの露光の少なくとも一方の露光において前記基板に多値的な露光量分布を与えることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 A ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 515 G ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (5件)

• フォトレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016763   出願人：株式会社リコー
• 特開平4-287908
  
• 特開平1-134919
  
• 特開平4-287908
  
• 特開平1-134919