特許
J-GLOBAL ID：200903018797359809
バーチカルレゾネータ・レーザーダイオードおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-548698
公開番号（公開出願番号）：特表2002-501680
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：
【要約】本発明のバーチカルレゾネータ・レーザーダイオードによれば、電流アパーチュア(19)が種々異なる大きさの通流開口部(16)を有する多数のアパーチュア層(5〜10)から形成され、該アパーチュア層(5〜10)の通流開口部(16)の大きさが活性層列(3)側から電気的コンタクト層(14,15)の方向で拡大している。
請求項（抜粋）：
第1のブラッグレフレクタ層列(2)と第2のブラッグレフレクタ層列(4)の間に、レーザビーム生成のための活性層列(3)が配設されており、前記ブラッグレフレクタ層列の各々は多数のミラー対(11,12)を有しており、 前記2つのブラッグレフレクタ層列(2,4)は、レーザーレゾネータを形成しており、 前記2つのブラッグレフレクタ層列(2,4)と活性層列(3)は、第1の電気的コンタクト層(14)と第2の電気的コンタクト層(15)の間に配置されており、 前記2つのブラッグレフレクタ層列(2,4)のうちの1つは、活性層列(3)内で生成されるレーザービームに対し部分透過性であり、 前記活性層列(3)の少なくとも一方の側で、当該バーチカルレゾネータ・レーザーダイオード(1)の作動中に活性層列(3)を流れる作動電流(13)の集束によって活性層列(3)においてポンピングされる活性範囲を制限するための電流アパーチュア(19)が設けられており、 前記電流アパーチュア(19)は、少なくとも1つのアパーチュア層(5)によって形成されており、該アパーチュア層は電気的なコンタクト層(14,15)の1つと活性層列(3)の間に配設されている、バーチカルレゾネータ・レーザーダイオード(1)において、 前記電流アパーチュア(19)が、種々異なる大きさの通流開口部(16)を備えた多数の個別のアパーチュア層(5〜10)から形成されており、前記アパーチュア層(5〜10)の通流開口部(16)の大きさが、活性層列(3)側から電気的なコンタクト層(14,15)の方向に向けて拡大されるように構成されていることを特徴とする、バーチカルレゾネータ・レーザーダイオード。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (3件)
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特公平2-057708
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面発光レーザ
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-153863
出願人：日本電気株式会社
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特公平2-057708
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