特許
J-GLOBAL ID：200903018807096771

XAFS測定方法及びXAFS測定装置

発明者：
田口 武慶

田口 武慶 について


出願人/特許権者：
理学電機株式会社

理学電機株式会社 について


代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-162280
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352079
出願日： 1998年06月10日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：
【要約】【課題】 単色化したX線の強度を高めることにより、より一層分解能の高いXAFS測定ができるようにする。【解決手段】 X線源Fから放射されたX線を曲率を持ったキャピラリ束1によって平行X線ビームに成形し、その平行X線ビームを平板結晶モノクロメータ11へ照射してそのモノクロメータから特定波長の平行X線ビームを取り出し、取り出したX線ビームに関して試料Sに入射する前のX線強度値及び試料を透過した後のX線強度値を測定し、そしてモノクロメータ11への平行X線ビームの入射角度を変化させることにより試料Sへ入射するX線のエネルギ値を変化させる。曲率を持ったキャピラリ束1を用いることにより、強度の強い平行X線ビームを形成してそれをモノクロメータ11へ照射できるので、平板結晶モノクロメータを用いることができる。
請求項（抜粋）：
試料に入射するX線のエネルギを変化させたときに得られる質量吸収係数の振動構造を測定するXAFS測定方法において、X線源から放射されたX線を曲率を持ったキャピラリ束によって平行X線ビームに成形し、その平行X線ビームを平板結晶モノクロメータへ照射してその平板結晶モノクロメータから特定波長の平行X線ビームを取り出し、取り出した平行X線ビームに関して試料に入射する前のX線強度値及び試料を透過した後のX線強度値を測定し、そして平板結晶モノクロメータへの平行X線ビームの入射角度を変化させることにより試料へ入射するX線のエネルギを変化させることを特徴とするXAFS測定方法。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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