特許
J-GLOBAL ID:200903018847686563

低温焼成磁器組成物、成形体および積層体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大場 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-133531
公開番号(公開出願番号):特開平8-325055
出願日: 1995年05月31日
公開日(公表日): 1996年12月10日
要約:
【要約】【目的】 900°C付近の低温度で、銀と同時焼成可能な低温焼成磁器組成物を得る。【構成】 重量%で、Al2O3 40〜60%、SiO2 25〜40%、PbO 5〜15%、Na2O 0.1〜3%、K2O 1〜3%、CaO 1〜6%、SrO 1〜6%からなる低温焼成磁器組成物。
請求項(抜粋):
Al、Si、Pb、Na、K、Ca、Srの酸化物から構成される磁器組成物で組成比は、重量%で、Al2O3 40〜60%、SiO225〜40%、PbO 5〜15%、Na2O 0.1〜3%、K2O 1〜3%、CaO 1〜6%、SrO 1〜6%から成ることを特徴とする低温焼成磁器組成物。
IPC (3件):
C04B 35/18 ,  C04B 35/111 ,  H01F 17/00
FI (3件):
C04B 35/18 Z ,  H01F 17/00 D ,  C04B 35/10 D
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • セラミック基板用組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-111341   出願人:松下電器産業株式会社
  • 特開昭63-215560
  • 特開昭63-215560

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