特許
J-GLOBAL ID：200903018987283345
親水性被膜形成基材及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-317403
公開番号（公開出願番号）：特開平11-147277
出願日： 1997年11月18日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 ガラス等の表面に親水性の被膜を形成し、親水性に優れ、かつ耐久性にも優れた親水性被膜形成基材およびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の親水性被膜形成基材は、基板上に、シリカおよび/またはアルミナの微粒子、並びにチタニアと非晶質の金属酸化物を含んでなる被膜が形成されており、かつチタンに対するケイ素および/またはアルミニウムの比率が重量比で、膜中で0.2〜1.7であり、最表面では1.5〜3であることを特徴とする。更に本発明の親水性被膜形成基材の製造方法の一つは、焼成によりチタニアを形成するゾル、非晶質の金属酸化物を形成するゾル、シリカおよび/またはアルミナの微粒子を含む溶液であって、溶液の焼成後の金属酸化物の組成が、チタニア45〜85重量%、非晶質金属酸化物5〜20重量%およびシリカおよび/またはアルミナの微粒子10〜50重量%となるようにした該溶液を、基板上に塗布し次いで400〜850°Cの温度で焼成することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板上に、シリカおよび/またはアルミナの微粒子、並びにチタニアと非晶質の金属酸化物を含んでなる被膜が形成されており、かつチタンに対するケイ素および/またはアルミニウムの比率が原子比で、膜中で0.2〜1.7であり、最表面では1.5〜3であることを特徴とする親水性被膜形成基材。
IPC (6件)：
B32B 9/00
, B01J 21/06
, B01J 35/02
, B32B 7/02
, C03C 17/25
, C08J 7/04
B32B 9/00 A
, B01J 21/06
, B01J 35/02 J
, B32B 7/02
, C03C 17/25 A
, C08J 7/04 T
