露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-152856
公開番号（公開出願番号）：特開平9-007919
出願日： 1995年06月20日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：

【要約】【目的】異なる大きさの露光フィールドを有する露光装置でミックス・アンド・マッチ方式で露光を行う場合に、前層のショット領域のショット配列の直交度誤差、又はショット回転が生じているときの重ね合わせ誤差を低減する。【構成】前層のそれぞれ一辺の長さがLのショット領域SA11,SA12,SA13,SA14に第1の露光装置等により回路パターンが形成され、且つそのショット配列に直交度誤差Wが生じている。その上のショット領域SB1 に4倍の露光フィールドを有する第2の露光装置で露光を行う前に、4個のショット領域SA11〜SA14の中心25にショット領域SB1 の中心を合わせ、ショット領域SB1 を回転角δだけ回転する。その回転角δをW/4に設定する。ショット回転が生じているときも同様である。

請求項（抜粋）：

互いに異なる大きさの露光フィールドを有する第1及び第2の露光装置を用いて、露光対象とする基板上にマスクパターンを重ねて露光する露光方法において、前記第1の露光装置を用いて第1のマスクパターンを前記基板上に所定の大きさのショット領域を単位として第1の配列で順次露光した後、前記第2の露光装置を用いて第2のマスクパターンを前記基板上に前記所定のショット領域と異なる大きさのショット領域を単位として第2の配列で順次重ねて露光する際に、前記第1の配列の直交度の設計値からのずれ、及び前記第1の配列の各ショット領域の回転角の平均値の少なくとも一方を検出し、該検出結果に応じた角度だけ前記第2のマスクパターンと前記基板とを相対的に回転した後、該第2のマスクパターンを前記基板上に順次露光することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 7/22

FI (6件)：

H01L 21/30 514 A , G03F 7/20 521 , G03F 7/22 H , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 518 , H01L 21/30 525 X

引用特許：

審査官引用 (4件)

位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-137913 出願人：株式会社ニコン
特開昭62-024624
特開昭62-024624

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