特許

J-GLOBAL ID：200903019102265120

基板処理装置

発明者： 坂井 高正
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 下出 隆史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-089475
公開番号（公開出願番号）：特開平11-265846
出願日： 1998年03月17日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】 従来の回転式基板処理装置とは異なる方式で基板の処理を行うことのできる技術を提供する。【解決手段】 本発明の基板処理装置は、略円形状の基板の下方に配置された噴流発生盤20から流体(処理液や気体)を基板のほぼ周方向に沿って斜め上方に噴出し、この噴流によって基板を浮上させた状態で回転させる。

請求項（抜粋）：

略円形状の基板の処理を行う基板処理装置であって、前記基板の下方に配置され、少なくとも前記基板に対向する表面領域に複数の流体噴出ノズルが設けられている第1の流体噴出部と、前記複数の流体噴出ノズルに流体を供給するための流体供給路と、備え、前記複数の流体噴出ノズルが流体を前記基板のほぼ周方向に沿って斜め上方に噴出することによって、前記基板を浮上させた状態で回転させることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 651

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 651 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-025122
  
• 現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-143437   出願人：沖電気工業株式会社