特許
J-GLOBAL ID:200903019159321906
HVOF溶射ガンによる金属皮膜形成方法と溶射装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-296709
公開番号(公開出願番号):特開2003-183805
出願日: 2002年10月09日
公開日(公表日): 2003年07月03日
要約:
【要約】【課題】 HVOF法によって基板を過熱することなく、緻密で酸素含有量の低い溶射皮膜を得る溶射方法およびそのための溶射装置を提供する。【解決手段】 HVOF溶射ガンバレルに、ガスシュラウドを装着し、ガンより溶射される金属粒子に対して金属粒子の速度を付勢加速せしめ、大気からシールドして基材表面に金属粒子を衝突させるよう、シュラウド内部空間に円周状のスリットより不活性ガスを供給する。
請求項(抜粋):
HVOF溶射ガンによる金属皮膜形成方法において、溶射ガンのバレル筒部に、バレル筒部と対応する形状の筒部を有するガスシュラウドを装着し、該溶射ガンから溶射される金属粒子に対して、酸化を抑制するとともに粒子速度を付勢せしめるようにシュラウド内部空間に不活性ガスを供給して、基板を過熱することなく、基板に金属粒子を加速して衝突させ、酸素含有量の低い緻密な溶射皮膜を比較的低温にて形成しうるようにしたHVOF溶射ガンによる金属皮膜形成方法であって、前記ガスシュラウド内部空間に不活性ガスを供給する手段が、円周状に形成されたスリットによって構成され、溶射ガンにより溶射される金属粒子に対してその速度を付勢し、大気の混入を防ぐように調整しうる手段であることを特徴とするHVOF溶射ガンによる金属皮膜形成方法。
IPC (4件):
C23C 4/12
, B05B 1/24
, B05B 7/20
, B05D 1/10
FI (4件):
C23C 4/12
, B05B 1/24
, B05B 7/20
, B05D 1/10
Fターム (38件):
4D075AA19
, 4D075BB29Y
, 4D075BB34X
, 4D075BB57Y
, 4D075BB95Y
, 4D075CA02
, 4D075CA33
, 4D075DB02
, 4D075DB04
, 4D075DC06
, 4D075EA02
, 4D075EB01
, 4F033AA13
, 4F033BA05
, 4F033DA01
, 4F033EA01
, 4F033HA01
, 4F033HA05
, 4F033QA01
, 4F033QB02Y
, 4F033QB05
, 4F033QB13Y
, 4F033QB19
, 4F033QD02
, 4F033QG11
, 4F033QG13
, 4F033QG19
, 4F033QG47
, 4K031AA05
, 4K031AA08
, 4K031AB08
, 4K031AB09
, 4K031CB21
, 4K031CB22
, 4K031CB23
, 4K031DA01
, 4K031EA01
, 4K031EA10
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
溶射方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-323156
出願人:新日本製鐵株式会社
-
アルミニウム継手の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-034854
出願人:スルザーメテコジャパン株式会社
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