ベストフォーカス位置の算出方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-004390
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216004
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】テストプリントにより投影光学系に対するベストフォーカス位置を求める際に、露光条件や計測条件に依らずにベストフォーカス位置を安定且つ正確に算出する。【構成】フォーカス位置を変えて焦点計測用のマーク像をウエハ上に露光して、フォーカス位置毎のマーク長の実測値を得、最小自乗法によりその実測値に対して曲線23で表される6次の近似関数を求め、この近似関数より仮のベストフォーカス位置を求める。仮のベストフォーカス位置からのフォーカス差に応じて重みを定め、重み付きの最小自乗法により、マーク長の実測値に対して曲線24で表される4次の近似関数を求め、この4次の近似関数からベストフォーカス位置を求める。

請求項（抜粋）：

マスクパターンを投影光学系を介して該投影光学系のベストフォーカス位置に設定された感光基板上に露光するために、前記感光基板の複数のフォーカス位置においてそれぞれ前記感光基板上に試験的に計測用マークの像を投影し、前記各フォーカス位置と対応する前記計測用マークの像との関係から前記投影光学系のベストフォーカス位置を算出する方法において、最小自乗法により、前記計測用マークの像の大きさをそれぞれ対応する前記フォーカス位置に関するn次以上(nは2以上の整数)の関数で近似する第1工程と、該近似された関数から仮のベストフォーカス位置を求める第2工程と、前記仮のベストフォーカス位置と前記各フォーカス位置との差に基づいて、前記各フォーカス位置用の重みを計算する第3工程と、前記フォーカス位置に関するn次以下の関数と対応する前記計測用マークの像の大きさとの差の自乗と前記第3工程で求めた重みとの積の前記各フォーカス位置に関する和を最小にする重み付け最小自乗法により、前記計測用のマークの像の大きさを前記フォーカス位置に関するn次以下の関数で近似する第4工程と、該第4工程で求められた前記n次以下の関数から前記投影光学系のベストフォーカス位置を求める第5工程とを有することを特徴とするベストフォーカス位置の算出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02B 7/28 , G03F 7/207

FI (3件)：

H01L 21/30 311 N , G02B 7/11 M , H01L 21/30 311 L

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平4-080761
特開平4-106550
半導体露光方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-022056 出願人：キヤノン株式会社

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