特許

J-GLOBAL ID：200903019195843021

窒化珪素多孔体及びその製造方法

発明者： 井上 勝弘 ,  森本 健司 ,  桝田 昌明 ,  川崎 真司 ,  阪井 博明
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-087911
公開番号（公開出願番号）：特開2002-284585
出願日： 2001年03月26日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】 平均細孔径が大である多孔構造を有するとともに、切り出した試験片の熱伝導率が大で熱膨張率が小である、セラミックフィルタ等のガス及び/又は溶液浄化部品に好適に用いられる窒化珪素多孔体平均細孔径が大である多孔構造を有するとともに、切り出した試験片の熱伝導率が大で熱膨張率が小である、セラミックフィルタ等のガス及び/又は溶液浄化部品に好適に用いられる窒化珪素多孔体を提供する。【解決手段】 金属珪素を主成分とする成形体を窒化させることにより得られる窒化珪素多孔体であって、平均細孔径が3μm以上の多孔構造を有するとともに、珪素と窒素との総量が95%以上で、かつ珪素の窒化率が90%以上であることを特徴とする窒化珪素多孔体。

請求項（抜粋）：

金属珪素を主成分とする成形体を窒化させることにより得られる窒化珪素多孔体であって、平均細孔径が3μm以上の多孔構造を有するとともに、珪素と窒素との総量が95%以上で、かつ珪素の窒化率が90%以上であることを特徴とする窒化珪素多孔体。

IPC (7件)：

C04B 38/00 304 ,  B01D 39/20 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 27/24 ,  B01J 32/00 ,  C04B 35/591 ,  C04B 35/584

FI (7件)：

C04B 38/00 304 Z ,  B01D 39/20 D ,  B01J 27/24 M ,  B01J 32/00 ,  B01D 53/36 ZAB C ,  C04B 35/58 102 V ,  C04B 35/58 102 Y

Fターム (49件)：

4D019AA01 ,  4D019AA03 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BC05 ,  4D019BC07 ,  4D019BD01 ,  4D019BD10 ,  4D019CA01 ,  4D019CB06 ,  4D048BA06X ,  4D048BA10X ,  4D048BA46X ,  4D048BB02 ,  4D048BB17 ,  4D048BB20 ,  4D048EA04 ,  4G001BA62 ,  4G001BB32 ,  4G001BB73 ,  4G001BC13 ,  4G001BC23 ,  4G001BC26 ,  4G001BC31 ,  4G001BC48 ,  4G001BC52 ,  4G001BC54 ,  4G001BC57 ,  4G001BD03 ,  4G001BD05 ,  4G001BD36 ,  4G001BE31 ,  4G001BE32 ,  4G001BE33 ,  4G001BE34 ,  4G019GA04 ,  4G019LA07 ,  4G069AA01 ,  4G069AA12 ,  4G069BB11A ,  4G069BB11B ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069CA08 ,  4G069CA13 ,  4G069EC17X ,  4G069EC17Y ,  4G069EC27 ,  4G069ED06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 2粒子分布を持った直接窒化法による低熱伝導窒化珪素焼結体とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-121820   出願人：株式会社ノリタケカンパニーリミテド
• セラミックス多孔体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-273796   出願人：住友電気工業株式会社