リソグラフィ投影装置に用いられる位置決め装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-403669
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025902
出願日： 2000年11月29日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】リソグラフィ装置の投影装置内に配置するマスクテーブルあるいは基板テーブルの位置決めをする位置きめ機構であって、それぞれ第1および第2スライダを担持する第1と第2サイドビームの間に横渡しにされ、かつ第3スライダを担持するクロスビームとで構成されるH形の位置決め機構において、正確な位置決めができるようにする。【解決手段】 X桁梁11がYスライダ121a,121bに対してXとYの併進運動とZ-軸の周りの回転(ヨウ)に剛的に装着され、XY平面において剛的な本体が構成される。X-軸とY-軸の周りの回転は、X桁梁11とYスライダ121a,121bの少なくとも一つとの間に設けた継手において許容されている。ヨウレートセンサと弾性バッファとにより衝撃保護を提供し、ヨウ運動が所定範囲外になったときにY桁梁12a,12bにバッファが接触する用に構成する。

請求項（抜粋）：

放射線感光層を設けた基板上にマスクのマスクパターンを結像するリソグラフィ装置にして、該リソグラフィ装置が、放射線投影ビームを供給する照射システムと、マスクを保持する第1対物テーブルと、基板を保持する第2対物テーブルと、前記マスクの照射部分を前記基板の目標部分上に結像する投影システムと、前記対物テーブルの少なくとも一つを一平面に位置付ける位置決めシステムと、を有し、前記位置決めシステムが、第1と第2のスライダをそれそれ担持するほぼ平行な第1と第2のサイドビームと、前記各サイドビームの長手方向に前記第1と第2のスライダを移動させる第1と第2のモータ手段と、それぞれ第1と第2端の近くで前記第1と第2のスライダに装着され、さらに第3のスライダを担持し、前記第1と第2のスライダとともに前記一平面内での並進方向と該一平面に垂直な軸の周りの回転方向とにおいて剛体である本体を構成するクロスビームと、前記第3のスライダに前記一つの対物テーブルを保持する対物ホルダを持たせて前記クロスビームの長手方向に前記第3のスライダを移動させる第3モータ手段とを有するようになったリソグラフィ装置において、前記第1のスライダに枢動可能に装着され、前記第1平面内で前記第1サイドビームに垂直に前記クロスビームと前記第1サイドビームとの間で力を伝達するスラスト軸受を設けたことを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/22 , G03F 9/00 , G12B 5/00 , H01L 21/68

FI (6件)：

G03F 7/22 H , G03F 9/00 H , G12B 5/00 T , H01L 21/68 K , H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 515 G

Fターム (25件)：

2F078CA02 , 2F078CA08 , 5F031CA02 , 5F031CA07 , 5F031HA02 , 5F031HA52 , 5F031HA53 , 5F031JA01 , 5F031JA02 , 5F031JA06 , 5F031JA32 , 5F031KA06 , 5F031KA07 , 5F031KA08 , 5F031LA03 , 5F031LA04 , 5F031LA08 , 5F031MA27 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC03 , 5F046CC05 , 5F046CC06 , 5F046CC18 , 5F046DA08

引用特許：

出願人引用 (1件)

ステージ装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-025124 出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (1件)

ステージ装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-025124 出願人：キヤノン株式会社

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