特許
J-GLOBAL ID：200903074597626974
ステージ装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-025124
公開番号（公開出願番号）：特開平9-219353
出願日： 1996年02月13日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：
【要約】【課題】 ステージの加減速に伴う反力の影響を小さくすることで、従来以上の高精度を達成したステージ装置を提供すること。【解決手段】 基準面を有する定盤(1)と、定盤(1)を支持する支持手段(13)と、基準面上で第1の方向に移動する第1の移動体(3)と、第1の移動体(3)を駆動する第1の駆動手段(6)と、第1の移動体(3)を基準にして該第1の方向とは異なる第2の方向に移動する第2の移動体(5)と、第2の移動体(5)を駆動する第2の駆動手段(7b)とを備え、定盤(1)とは別の基台(11、12)によって第1の駆動手段(6)及び第2の駆動手段(7)の駆動反力を受けるようにした。また、第1の移動体(3)に対して第2の駆動手段(7b)を第2の方向に微小に変位可能に支持する支持機構(14)を設けた。
請求項（抜粋）：
基準面を有する定盤と、該定盤を支持する支持手段と、該基準面上で移動する移動体と、該移動体を駆動する駆動手段と、該駆動手段を支持する前記定盤とは別の基台とを有し、前記移動体をガイドするガイド部材の少なくとも一部を前記基台に固設したことを特徴とするステージ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 515 G
, H01L 21/68 K
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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