特許

J-GLOBAL ID：200903019327388981

光造形法におけるサポート形成方法およびその設計装置

発明者： 坪井 邦雄 ,  水谷 浩章 ,  長谷川 美智彦
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 河村 洌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-179348
公開番号（公開出願番号）：特開2001-009920
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】 光造形法により立体モデルを形成する場合に、立体モデルの形状に合せて、必要な部分にサポートを自動的に形成することができるようなサポート形成方法およびその設計装置を提供する。【解決手段】 (a)立体モデルのデータを水平面と平行に一定の厚さで層状に分割して各層の外形のデータを作成し、(b)該分割した各層の隣接する2層の外周間の距離を計測して、該隣接する2層の上層の外周部が、下層の外周部より一定距離以上離れている部分をサポート形成領域とし、(c)前記サポート形成領域の外周部および該外周部と前記下層の外周部との間に所定の間隔でサポート形成部を設定し、(d)前記サポート形成部が設定された層および該層より下層の前記サポート形成部の位置にサポートを形成することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

(a)立体モデルのデータを水平面と平行に一定の厚さで層状に分割して各層の外形のデータを作成し、(b)該分割した各層の隣接する2層の外周間の距離を計測して、該隣接する2層の上層の外周部が、下層の外周部より一定距離以上離れている部分をサポート形成領域とし、(c)前記サポート形成領域の外周部および該外周部と前記下層の外周部との間に所定の間隔でサポート形成部を設定し、(d)前記サポート形成部が設定された層および該層より下層の前記サポート形成部の位置にサポートを形成することを特徴とする光造形法におけるサポート形成方法。

IPC (2件)：

B29C 67/00 ,  B29K105:24

Fターム (7件)：

4F213AA44 ,  4F213WA25 ,  4F213WB01 ,  4F213WL03 ,  4F213WL12 ,  4F213WL62 ,  4F213WL93

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 三次元形状造形物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-332231   出願人：松下電工株式会社