特許

J-GLOBAL ID：200903019345620328

プラズマ処理の終点検出方法及びその装置

発明者： 高尾 和久
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-139440
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319924
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】 モニタ波形のデータを移動平均処理した場合に、正確な終点検出ができるプラズマ処理の終点検出方法及びその装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理室内に反応ガスを間欠的に導入し、プラズマによって被処理基板を処理し、プラズマ処理室内のプラズマの所定波長の発光強度を信号として抽出し、この発光信号の変化から処理の終点を検出する方法として、この抽出した発光信号を前記プラズマ処理室内への反応ガスの導入周期よりも短い周期で前記導入周期に同期させて断続的に抽出し、この抽出した発光信号の強度の変化を示すデータに基づいて前記プラズマによる処理の終点を検出するようにした。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理室内に反応ガスを間欠的に導入し、プラズマによって被処理基板を処理し、前記プラズマ処理室内のプラズマの所定波長の発光強度を信号として取出し、この発光信号の変化から処理の終点を検出する方法であって、この取出した発光信号を前記プラズマ処理室内への反応ガスの導入周期よりも短い周期で前記導入周期に同期させて断続的に抽出し、この抽出した発光信号の強度の変化を示すデータに基づいて前記プラズマによる処理の終点を検出することを特徴とするプラズマ処理の終点検出方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

FI (2件)：

C23F 4/00 F ,  H01L 21/302 E

Fターム (12件)：

4K057DA14 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DE01 ,  4K057DJ02 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004CB02 ,  5F004CB16 ,  5F004DA04 ,  5F004DB02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-048423
  
• 特開昭60-050923
  
• プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-114885   出願人：三菱電機株式会社, 三菱電機エンジニアリング株式会社
• プラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-187621   出願人：東京エレクトロン株式会社