特許

J-GLOBAL ID：200903019353064426

化学増幅型レジスト用感光性ポリマ-及びこれを含む化学増幅型レジスト組成物

発明者： 崔 相 俊
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231386
公開番号（公開出願番号）：特開2000-063441
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：

【要約】【課題】 環状構造の主鎖を有する感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明は化学増幅型レジストに用いられる式【化1】(式中、R1は水素原子、C1〜C20の脂肪族炭化水素、またはC7〜C20の脂環式炭化水素で、R2はt-ブチル、テトラヒドロピラニルまたは1-アルコキシエチル基で、l/(l+m+n)は0.0〜0.4、m/(l+m+n)は0.5、n/(l+m+n)は0.1〜0.5である。)である感光性ポリマー、及び前記ポリマーとPAGよりなるレジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

式:【化1】(式中、R1は水素原子、C1〜C20の脂肪族炭化水素、またはC7〜C20の脂環式炭化水素で、R2はt-ブチル、テトラヒドロピラニルまたは1-アルコキシエチル基で、l/(l+m+n)は0.0〜0.4、m/(l+m+n)は0.5、n/(l+m+n)は0.1〜0.5である。)で示される化学増幅型レジスト用感光性ポリマー。

IPC (3件)：

C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601

FI (3件)：

C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 化合物とその製造方泡共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト用共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト組成物とその製造方法、フォトレジストパタ-ン形成方泡及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-374661   出願人：現代電子産業株式会社
• 感光性ポリマー及びそれを利用した化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-358468   出願人：三星電子株式会社
• 感光性重合体、溶解抑制剤及びこれらを含む化学増幅型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-134933   出願人：三星電子株式会社

審査官引用 (1件)

• 化合物とその製造方泡共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト用共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト組成物とその製造方法、フォトレジストパタ-ン形成方泡及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-374661   出願人：現代電子産業株式会社