特許
J-GLOBAL ID：200903019376817200
電気化学製造のための物品、方法、および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 洋二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-142211
公開番号（公開出願番号）：特開2002-011700
出願日： 1998年04月03日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：
【要約】【課題】 構成材料と犠牲材料の両方の着電に基づいて多層3次元構造を形成する。【解決手段】 めっきされる基板2に、マスク6および支持体8を含む第1の物品4aを接触させ、第1の金属イオン源が存在している状態で、第1の金属(例えば犠牲金属)12を堆積し、マスク16および支持体18を含む第2の物品14を基板2に接触させ、第2の金属イオン源が存在している状態で、第2の金属(例えば構成金属)20を堆積し、層を平坦化する。そして、異なるパターンの電気めっき物品4a、4b、14a、14bを用いて上記した方法を繰り返し、多層構造24を生成する。犠牲金属12の全てをエッチングすることによって、エレメント26を得る。
請求項（抜粋）：
電気めっきプロセスであって、このプロセスは、a)基板と、この基板上のパターンに適合するように配置されたマスクを含む第1の物品に、第1の基板を接触させ、b)前記マスクのパターンと相補的に対応する第1のパターンで、金属イオン源から第1の金属を前記第1の基板の上に電気めっきし、c)前記第1の基板から前記第1の物品を取り除くこと、を含む。
IPC (2件)：
B81C 1/00
, C25D 1/00 381
B81C 1/00
, C25D 1/00 381
