欠陥検査方法及びその装置

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-000105
公開番号（公開出願番号）：特開2004-144764
出願日： 2004年01月05日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：

【課題】試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の0次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。【解決手段】試料を偏光照明する照明光学系と、試料で偏光回転を受けた高次回折光を0次光よりも効率良く透過する偏光光学部品と、偏光光学部品を透過あるいは反射した光で試料の像を光電変換素子上に結像させる検出光学系とを用いて高解像度光学系を構成した。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源から発射した光を表面にパターンが形成された試料の表面に光を対物レンズを介して照射し、該照射による前記試料表面からの反射光を前記対物レンズを介して検出して前記試料表面の画像を得、該得た画像を予め記憶しておいた画像と比較して前記試料の欠陥を検出する方法であって、前記試料の表面に照射する光の波長を前記試料表面に形成されたパターンに応じて前記光源から発射した光の中から選択して照射することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (5件)：

G01N21/956 , G01B11/30 , G02B21/06 , G06T1/00 , H01L21/66

FI (5件)：

G01N21/956 A , G01B11/30 A , G02B21/06 , G06T1/00 305A , H01L21/66 J

Fターム (75件)：

2F065AA24 , 2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065BB17 , 2F065BB21 , 2F065DD09 , 2F065FF04 , 2F065FF48 , 2F065FF49 , 2F065GG23 , 2F065LL00 , 2F065LL13 , 2F065LL22 , 2F065LL35 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065PP12 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ38 , 2F065RR08 , 2F065SS01 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA11 , 2G051BB07 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB06 , 2G051CC07 , 2G051DA07 , 2H052AA01 , 2H052AB24 , 2H052AC04 , 2H052AC14 , 2H052AC27 , 2H052AC30 , 2H052AD32 , 2H052AD34 , 2H052AF14 , 2H052AF21 , 2H052AF25 , 4M106AA01 , 4M106AA20 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB02 , 4M106DB07 , 4M106DB12 , 4M106DB13 , 4M106DB15 , 4M106DB19 , 4M106DB20 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21 , 4M106DJ23 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057BA26 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CC01 , 5B057CD03 , 5B057CH18 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DA08 , 5B057DA16 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC05 , 5B057DC33

引用特許：

出願人引用 (1件)

光学顕微鏡を用いて緻密なライン幅構造を映像化する方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-292647 出願人：プロメトリクス・コーポレーション

審査官引用 (1件)

半導体基板の製造方法並びに被検査対象物上のパターンの欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-139198 出願人：株式会社日立製作所

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