化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-184546
公開番号（公開出願番号）：特開2002-116546
出願日： 2001年06月19日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物。【解決手段】酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂及び酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、該酸発生剤として、下式(I)で示されるスルホニウム塩及び下式(I’)で示されるスルホニウム塩から選ばれる少なくとも1種のスルホニウム塩と、及びから選ばれる少なくとも1種のオニウム塩とを併用する。

請求項（抜粋）：

下式(I)で示されるスルホニウム塩及び下式(I’)で示されるスルホニウム塩(式中、Q1、Q2は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。Q3は、水素原子を表し、Q4は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表すか、又はQ3とQ4が隣接するCHC(O)基と一緒になって2-オキソシクロアルキル基を表す。Q5SO3-は有機スルホナートイオンを表す。但し、Q5が炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基を表す場合は、Q3とQ4が隣接するCHC(O)基と一緒になって2-オキソシクロヘキシル基を表す場合を除く。)(式中、Qは、記載のS+とともに環を完成する炭素数3〜7の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基は、ケトン基を有していてもよく、また該脂環式炭化水素基の少なくとも1個の-CH2-が酸素原子もしくは硫黄原子に置換されていてもよい。Q3は、水素原子を表し、Q4は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表すか、又はQ3とQ4が隣接するCHC(O)基と一緒になって2-オキソシクロアルキル基を表す。Q5SO3-は有機スルホナートイオンを表す。)から選ばれる少なくとも1種のスルホニウム塩と、下式(IIa)で示されるトリフェニルスルホニウム塩及び下式(IIb)で示されるジフェニルヨードニウム塩(式中、P1〜P3は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、P6SO3-は、有機スルホナートイオンを表す。)(式中、P4、P5は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、P7SO3-は、有機スルホナートイオンを表す。)から選ばれる少なくとも1種のオニウム塩とを含む酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , C07C381/12 , C07D333/46 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C07C381/12 , C07D333/46 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB80

引用特許：

審査官引用 (1件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-219125 出願人：日本合成ゴム株式会社

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