特許

J-GLOBAL ID：200903019459889416

偏光ビームスプリッタ及びこのビームスプリッタを用いる光磁気再生装置

発明者： ファン デル ワル ヨハネス ,  オペーイ ウィレム ヘラルド
出願人/特許権者： フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-502618
公開番号（公開出願番号）：特表平8-503315
出願日： 1994年06月23日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】光偏光ビームスプリッタは、補償積層体(11〜13)及びことと隣接する偏光積層体88〜10)を構成する薄膜88〜12)の積層体を有する。偏光積層体は第1の屈折率n<SB>w</SB>の層と第2の屈折率n<SB>h</SB>の層とが交互に形成された複数の順次の層を有する。補償積層体は1/4波長の厚さを有すると共に、n<SB>1</SB>,n<SB>2</SB>及びn<SB>3</SB>(n<SB>3</SB><n<SB>2</SB>〈n<SB>1</SB>)の屈折率を有する3個の順次層を有するるこの補償積層体により、ビームスプリッタを通過した透過光又は反射光の2個の直交する方向の偏光成分間の位相差を最小にする。このビームスプリッタは、発散性光ビーム又は集束性光ビームを所定の偏光成分に分割する光学装置に用いるのが好適である。

請求項（抜粋）：

所定の波長を有する非平行な光ビームを偏光状態が互いに相異する2本のサブビームに分離する偏光ビームスプリッタであって、複数の薄い層から成る偏光積層体が形成されている偏光ビームスプリッタにおいて、 前記偏光積層体を通過する際に生ずる位相不整合を補償する補償手段を具えることを特徴とする偏光ビームスプリッタ。

IPC (4件)：

G02B 5/30 ,  G02B 27/28 ,  G11B 7/135 ,  G11B 11/10 551

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 多層偏光分離膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-056351   出願人：旭光学工業株式会社
• 偏光変換合成素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-102984   出願人：トヨタ自動車株式会社
• 回折格子型偏光子とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-170938   出願人：ティーディーケイ株式会社