特許

J-GLOBAL ID：200903019464915336

位置合わせ方法及びそれを用いた露光装置

発明者： 稲 秀樹 ,  宇多村 信治 ,  坂井 文夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-103106
公開番号（公開出願番号）：特開平8-279457
出願日： 1995年04月04日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：

【要約】【目的】 可視光の領域で透過率を持たないカラ-レジストの位置合わせを可能にする微細パタ-ン形成方法及び装置を提供すること。【構成】 レチクルの像を投影光学系によりガラスプレ-トやウエハ-上に位置合わせして露光転写する装置において、検出光学系がTTLオンアクシススコ-プと、TTLオフアクシススコ-プと、オフアクシススコ-プの3種類で構成され、該オフアクシススコ-プの観察波長帯が820〜940nmを含むこと。

請求項（抜粋）：

第1の物体上の像を第2の物体上に位置合わせして露光転写する際、該第2の物体を820〜940nmの波長帯を含む光を用いて観察する観察光学系を具備したことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

H01L 21/30 502 M ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 520 A ,  H01L 21/30 525 A ,  H01L 21/30 525 K

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体装置の製造方法及び位置合わせ用装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-343273   出願人：ソニー株式会社
• 特開平4-317316
  
• 特開平2-155223