特許
J-GLOBAL ID：200903019514077116

露光装置

発明者：
高田 裕貴

高田 裕貴 について


出願人/特許権者：
ローム株式会社

ローム株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-073029
公開番号（公開出願番号）：特開平9-266150
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、露光工程における作業効率の改善と、費用の削減が可能な露光装置を提供することにある。【解決手段】 紫外線光源1と、シャッター2と、縮小投影レンズ5と、X-Yステージ6とを有しており、従来のレチクルに代わって制御装置9が配線11で接続された複数台の透過型表示装置8が設置されている。この制御装置9からの駆動信号により透過型表示装置8上に光を透過または遮蔽する領域が形成され、任意のマスクパターン3を実現することができる。そして、各透過型表示装置8にはセル単位毎に光ファイバー10が設けられており、この光ファイバー10によりマスクパターン3が縮小投影レンズ5に導かれることで、より高密度なマスクパターンが実現できる。
請求項（抜粋）：
紫外線光源から発生される光を縮小投影レンズを通して半導体ウエハ上に塗布された感光性材料に照射しマスクパターンを転写する露光装置において、駆動信号に応じて任意のマスクパターンを形成できる複数の透過型画像表示装置と前記複数の透過型画像表示装置を透過した光を縮小投影レンズに導く光ファイバーとを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件)：
H01L 21/30 515 F ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-303144   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開平2-000307
  • レーザ露光描画装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-011859   出願人：ソニー株式会社

前のページに戻る

TOP

BOTTOM