特許
J-GLOBAL ID：200903019587616660

光回折構造による隠しパターン及びその作製方法

発明者：
鈴木 慎一郎

鈴木 慎一郎 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-156208
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344633
出願日： 2002年05月29日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】偽造防止効果が大で、目視手段による判別が極めて困難な隠しパターンを提供する。【解決手段】前記課題の目的を達成するために、回折格子により形成された全体領域が判別可能な複数の部分領域に分割され、前記部分領域の中の、少なくとも1個の領域が判別不可能な2つのパターンで構成され、前記2つのパターンはそれぞれが互いに平行に配列された微細な縞で構成されている光回折構造による隠しパターンを提供する。
請求項（抜粋）：
回折格子により形成された全体領域が判別可能な複数の部分領域に分割され、前記部分領域の中の、少なくとも1個の領域が判別不可能な2つのパターンで構成され、前記2つのパターンはそれぞれが互いに平行に配列された微細な縞で構成されていることを特徴とする光回折構造による隠しパターン。
IPC (4件)：
G02B 5/18 ,  B42D 15/10 501 ,  B42D 15/10 531 ,  G07D 7/20
FI (4件)：
G02B 5/18 ,  B42D 15/10 501 P ,  B42D 15/10 531 C ,  G07D 7/20
Fターム (17件)：
2C005HA04 ,  2C005HB10 ,  2C005HB13 ,  2C005JA18 ,  2C005JA19 ,  2C005JB08 ,  2C005JB09 ,  2H049AA33 ,  2H049AA60 ,  2H049AA66 ,  3E041AA01 ,  3E041AA02 ,  3E041BA11 ,  3E041BA14 ,  3E041BB03 ,  3E041CA01 ,  3E041DB01
引用特許：
審査官引用 (3件)

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