基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-248213
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087225
出願日： 1997年09月12日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】必要に応じて基板の周辺にダウンフローを形成することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Wの周辺を取り囲むように内カップ40が配置されている。内カップ40の外側には外カップ50がさらに配置されている。外カップ50には、側壁の排気口51から排気する経路と底面の排気口52から排気する経路の2系統の排気経路が設けられており、これらは排気ボックス70の切替弁72の回動によって切り替えられる。基板Wに現像液を供給するときまたは現像処理中は排気口51から内カップ40と外カップ50との隙間の空気を排気し、基板Wの周辺にはダウンフローを形成しないようにして、現像処理の均一性を高める。一方、基板Wにリンス液を供給するときまたはリンス液の乾燥処理中は、排気口52から内カップ40の内側の空気を排気し、基板Wの周辺にダウンフローを形成して、リンス液の飛散を防止する。

請求項（抜粋）：

基板に処理液を付与して所定の処理を行う基板処理装置であって、(a) 基板を保持する保持手段と、(b) 前記保持手段を回転させる回転駆動手段と、(c) 前記保持手段に保持された基板に前記処理液を供給する処理液供給手段と、(d) 前記保持手段に保持された基板の周囲を取り囲む内カップと、(e) 前記内カップの周囲に前記内カップと間隔を隔てて配置された外カップと、(f) 前記内カップの内側の雰囲気を装置外部の排気手段に連通させる第1排気連通手段と、(g) 前記間隔の雰囲気を前記排気手段に連通させる第2排気連通手段と、(h) 前記第1排気連通手段による連通状態と前記第2排気連通手段による連通状態とを択一的に切り替える切替手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

FI (4件)：

H01L 21/30 569 C , B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-174848
基板回転式現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-276376 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
回転式基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-323839 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

全件表示

前のページに戻る