特許
J-GLOBAL ID：200903019597189174
脱窒処理装置および脱窒処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
藤本 昇
, 薬丸 誠一
, 中谷 寛昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-065225
公開番号（公開出願番号）：特開2008-221161
出願日： 2007年03月14日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】処理水の水質低下を抑制させ得る脱窒処理装置ならびに脱窒処理方法の提供を課題としている。 【解決手段】被処理水が流入されて第一脱窒工程が実施される第一脱窒槽と、該第一脱窒槽から排出される前記処理水が流入されて第二脱窒工程が実施される第二脱窒槽との少なくとも二台の脱窒槽が備えられており、第二脱窒槽内の槽内水を曝気する曝気装置と、曝気装置の運転を制御する曝気運転制御機構とがさらに備えられており、該曝気運転制御機構には、第二脱窒槽内の槽内水のアンモニア性窒素濃度に基づいて制御を実施させ得るように第二脱窒槽の槽内水のアンモニア性窒素濃度を測定するアンモニア性窒素測定装置が備えられており、しかも、第二脱窒槽では、独立栄養性脱窒細菌、アンモニア酸化細菌および従属栄養性脱窒細菌存在下で第二脱窒工程が実施される脱窒処理装置を提供する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
アンモニア性窒素を含む被処理水を少なくとも二回の脱窒工程によって脱窒処理させ得るように、前記被処理水が流入されて第一脱窒工程が実施される第一脱窒槽と、該第一脱窒槽から排出される処理水が流入されて第二脱窒工程が実施される第二脱窒槽との少なくとも二台の脱窒槽が備えられており、しかも、前記第二脱窒槽ではアンモニア性窒素を電子供与体とし、亜硝酸性窒素を電子受容体とする独立栄養性脱窒細菌の存在下で前記第二脱窒工程が実施される脱窒処理装置であって、
前記第二脱窒槽内の槽内水を曝気する曝気装置と、該曝気装置の運転を制御する曝気運転制御機構とがさらに備えられており、該曝気運転制御機構には、前記第二脱窒槽の槽内水のアンモニア性窒素濃度に基づいて前記制御を実施させ得るように前記第二脱窒槽の槽内水のアンモニア性窒素濃度を測定するアンモニア性窒素測定装置が備えられており、しかも、前記第二脱窒槽では、前記独立栄養性脱窒細菌とともにアンモニア酸化細菌および従属栄養性脱窒細菌存在下で前記第二脱窒工程が実施されることを特徴とする脱窒処理装置。
IPC (1件)：
FI (3件)：
C02F3/34 101B
, C02F3/34 101C
, C02F3/34 101A
4D040BB07
, 4D040BB42
, 4D040BB63
, 4D040BB82
, 4D040BB91
, 4D040BB93
