特許

J-GLOBAL ID：200903019642739741

組成物、成膜方法及び成膜装置、電気光学装置及びその製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法、デバイス及びその製造方法、電子機器

発明者： 遠藤 彩映 ,  関 俊一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-189513
公開番号（公開出願番号）：特開2004-087482
出願日： 2003年07月01日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】パターン形成用材料を液状化した際、気泡の発生を抑えることができる液状体組成物、及びこの液状体組成物を用いて生産性良く膜パターンを形成できる成膜装置を提供する。【解決手段】成膜装置は、有機機能材料と溶媒と界面活性剤とを含む液状体組成物を生成する液状体組成物生成装置Sと、液状体組成物生成装置Sで生成した液状体組成物からなる液滴を基板Pに吐出する液滴吐出装置IJとを備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

有機機能材料と溶媒とを含有する液状体に界面活性剤を添加したことを特徴とする組成物。

IPC (6件)：

H05B33/14 ,  G02B5/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L51/00 ,  H05B33/10

FI (6件)：

H05B33/14 B ,  G02B5/20 101 ,  H05B33/10 ,  H01L29/28 ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A

Fターム (41件)：

2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  5F110AA16 ,  5F110AA18 ,  5F110AA30 ,  5F110BB02 ,  5F110CC02 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD13 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG05 ,  5F110GG13 ,  5F110GG25 ,  5F110GG42 ,  5F110GG45 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ13 ,  5F110HL07 ,  5F110NN73 ,  5F110PP01 ,  5F110PP03 ,  5F110PP05 ,  5F110PP06 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ11

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 有機EL表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、それから形成された絶縁膜、および有機EL表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-379680   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 特開平3-037992
  
• 有機EL層形成用塗液および有機EL素子ならびにその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-243115   出願人：シャープ株式会社
• 有機EL表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-075019   出願人：株式会社東芝